光學零件工藝學-文庫吧在線文庫

　　

【正文】 隔 與干涉級的關系 ? 當 k＝ 0時 ? 當 k逐漸增大時， 愈來愈小 ,即 逐漸減小，以致眼睛無法分辨， k的極限可由物理光學得知 : ? 為人眼所能分辨的波長范圍 ,用白光照射平均波長 ? ? 條 1 ( 1 )kkr r r R k k??? ? ? ? ? ?rrR??? 1kk??r?k??? ??? m???m a x 500 5010k ??? ? ?? ? 由此得出。高光圈識別，正好與此相反。 /10? 色序法 ? 按光圈顏色的序列來識別光圈高低的方法，稱色序法。所以高光圈時，光圈向外擴散。用周邊加壓法或一側加壓法可以判斷像散的大小。 局部高 條紋局部的彎曲凹向朝著加壓點。 ? N—— 被檢光學表面的曲率半徑相對于參考光學表面曲率半徑的偏差稱半徑偏差。 光圈數Ｎ的度量 ? （ a） N＝ 3； (b)Ｎ＝ 2； (c)N＝ 2； (d)Ｎ＝ 1． a)單色光照明時，產生明暗相間的干涉條紋，其條紋數目就是光圈數 N。 ③ 用小樣板檢驗大零件時，光圈的計算 樣零樣零樣零樣零222222DDDDSSNN????????????????? 局部誤差的計算 ⑴ 中心局部偏差（中心高 /中心低） 圖 中心局部誤差 ? （ a）低光圈中心低；（ b）低光圈中心高 ⑵ 邊緣局部偏差 （指塌邊和翹邊（勾邊），即邊緣多磨或少磨） 按高低光圈也分為四種：高光圈（塌邊 /翹邊），低光圈（塌邊 /翹邊）。當被檢零件的光圈為弓形光圈時，規定根據 Δ 2N為最小原則定N和 Δ 2N。 （ 6）最主要的因素是機床調整是否正確，包括機床轉速、壓力、鏡盤與工具的相對速度和相對位移等方面。 局部誤差的修改 工藝因素 局部低和塌邊 局部高和翹邊 象散差 修改拋光模 修改拋光模有誤差部分 修改拋光模無誤差部分 均勻修改整個拋光模表面 主軸轉速 減小 加大 減小 擺速 減小 加大 加大 擺幅 減小 加大 對稱擺幅 鐵筆位置 放中心 拉出來 壓力 減小 加大 加大 拋光模的修改形式 古典法拋光工藝 ? ◆ 古典法拋光工藝 目前在光學零件生產中，采用的拋光方法主要有古典拋光和高速拋光。 拋光模過軟 拋光模容易變形，使拋光鏡盤產生塌邊。如果使用的是氧化鐵拋光粉，則拋光粉與水的比列是 1： 3～ 1： 4。 光圈變形 粘結力不合適；光圈未穩定即下盤。 高速拋光模的要求（ 3） 柔韌性 在一定的溫度和壓力下，拋光模應具有一定的蠕動，這樣有利于拋光模與鏡盤的吻合，以減少表面疵病，獲得所要求的光圈。當濃度超過 30％，拋光效率下降；溫度應在 30 ～ 38℃ 之間選擇；拋光液的 PH值應選擇中性或偏酸性。 范成法高速拋光工藝 ? ★ 范成法高速拋光工藝 與金剛石磨輪銑磨成型加工原理相似，工件與模具軸各自強制轉動，兩軸線相交于一點，夾角為 α，模具活動軌跡形成球面。 分離器法 ? ★ 分離器法 分離器是一塊有若干個圓孔的玻璃圓盤，它的工作面平面度很好，適合于平面樣板的拋光。 特點 長期保持面形的正確性； 拋光模表面很光滑，沒有微孔結構； 基體是石英玻璃，模層是涂碳氟塑料； 可采用機器拋光 。 標準樣板的制造 R35mm的標準樣板的制造 當制作 R35mm的標準樣板或 R35mm的凹標準樣板是，先將樣板做成弧形，再用球徑儀測量直徑R。 拋光時采用非常細的拋光劑、很小的壓力和速度，在拋光的最后階段還可用稀釋的拋光液或清水拋光。 在拋光模和被拋光表面間保持有厚度數倍于磨料顆粒尺寸的液體層。 :53:4603:53:46March 11, 2023 ? 1他鄉生白發，舊國見青山。 :53:4603:53Mar2311Mar23 ? 1世間成事，不求其絕對圓滿，留一份不足，可得無限完美。 , March 11, 2023 ? 閱讀一切好書如同和過去最杰出的人談話。 2023年 3月 11日星期六 3時 53分 46秒 03:53:4611 March 2023 ? 1一個人即使已登上頂峰，也仍要自強不息。勝人者有力，自勝者強。 。 2023年 3月 11日星期六 3時 53分 46秒 03:53:4611 March 2023 ? 1做前，能夠環視四周；做時，你只能或者最好沿著以腳為起點的射線向前。 , March 11, 2023 ? 雨中黃葉樹，燈下白頭人。 適用范圍廣，可加工多種材料。 隨著光學儀器的適用波段范圍向紫外和 X光的延伸，對光學表面粗糙度的要求也就越來越高。 R＜ 35mm的標準樣板的制造 R35mm的標準樣板的制造 標準樣板的制造 R＜ 35mm的標準樣板的制造 對于 R＜ 35mm的標準樣板 ,為達到 A級精度，凸樣板一般做成整球或超半球的形式。 分 離 器 環式連續拋光法 ? ★ 環式連續拋光法 該方法是從塊規的行星式拋光移植而來的，工作時將工件置于待校正盤的環式拋光模上，由夾持器驅動進行拋光。 零件的下盤 高精度平面光學零件拋光工藝 ? ◆ 高精度平面光學零件拋光工藝 ★光膠法 光膠法是利用光學表面間分子吸力來裝夾工件，這種方法適合于加工棱鏡、長方體、立方體、平行平板等，既能保證平面度，又能保證角度精度。這種拋光模的拋光能力強，自銳性好，面形穩定。球心調整誤差不超過177。微孔結構有利于儲存大量的水分，既能使拋光顆粒分布均勻，又能進行水解反應，還有冷卻和清洗的作用。 溫度對工件的影響 溫度變化時，如果粘結膠和玻璃的熱膨脹系數不一致，工件拋光表面會產生熱變形。結晶結構不同，拋光粉的硬度不同。 拋光模的幾何形狀 拋光模的幾何形狀影響拋光精度。但在實際中，拋光模是有變形的，低光圈應該拋得緊些，高光圈應該拋得松些。 （ 2）在零件上盤過程中（彈性裝置），由于零件受熱，會產生應力而引起變形。即 Δ 2N＝ e/H 中心局部偏差 它包括低光圈（高光圈）的中心高和中心低四種情況。因紅色鮮明，波段寬，為便于觀察，通常以紅色為計算光圈的標準顏色， c、按暗條紋計算光圈數時，由于半波損失多算了半道圈 ② N＜ 1的計算 a)對平面或大曲率半徑球面零件 當零件表面是理想平面或球面時，干涉條紋往往是彎曲成一定程度的不完整圓的光圈，稱為弧形光帶，此時根據彎曲的程度來判斷光圈數