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培訓資料電鏡ppt課件(編輯修改稿)

2026-02-06 19:11 本頁面

　

【文章內容簡介】 30mm2 活區，分辨率優于 133eV (MnKα處 ,計數率為 4000cps)，分析元素范圍： Be4U92 16 第二節像襯原理與應用 ? 一、像襯原理 ? 像的襯度：像的各部分 (即各像元 )強度相對于其平均強度的變化。 ? SEM可以用二次電子、背散射電子、吸收電子、特征 X射線（帶 EDS或 WDS）、俄歇電子（單獨的俄歇電子能譜儀）等信號成像。 17 1．二次電子像襯度及特點 ? 二次電子信號主要來自樣品表層 5~10nm深度范圍，能量較低 (小于 50eV)。 ? 影響二次電子產額的因素主要有： (1)入射電子的能量； (2)材料的原子序數； (3)樣品傾斜角 ?。 18 二次電子像的襯度可以分為以下幾類： (1)形貌襯度 (2)成分襯度 (3)電壓襯度 (4)磁襯度 (第一類 ) 形貌襯度原理樣品傾斜角 ? 入射電子束表面法線樣品傾斜角 ?越大二次電子產額越大圖像越明亮 19 二次電子像襯度的特點：（ 1）分辨率高（ 2）景深大，立體感強（ 3）主要反映形貌襯度。通常所指的掃描電鏡的分辨率，就是指二次電子像的分辨率。 20 2．背散射電子像襯度及特點影響背散射電子產額的因素： (1) 原子序數 Z (2) 入射電子能量 E0 (3) 樣品傾斜角 ? 背散射電子像襯度： (1) 成分襯度 (2) 形貌襯度 (3) 磁襯度 (第二類 ) 與二次電子像比較，其特點：（ 1）分辯率低（ 2）背散射電子檢測效率低，襯度小（ 3）主要反應原子序數襯度背散射系數與原子序數的關系當觀察原子序數襯度時，需將樣品磨平、拋光。元素像形貌像形貌與元素象的分離 22 二次電子運動軌跡背散射電子運動軌跡二次電子像的分辨率高、景深大，為什么？樣品制備 ? 一般玻璃材料，纖維材料，高分子材料以及陶瓷材料幾乎都是非導電性的物質。在利用掃描電鏡進行直接觀察時，會產生嚴重的荷電現象，影響對樣品的觀察，因此需要在樣品表面蒸鍍導電性能好的金等導電薄膜層。 ? 在樣品表面鍍金屬層不僅可以防止荷電現象，換可以減輕由電子束引起的樣品表面損傷；增加二次電子的產率，提高圖像的清晰度；并可以掩蓋基材信息，只獲得表面信息。樣品制備 ? 一般金屬層的厚度在 10納米以上，不能太厚。 ? 鍍層太厚就可能會蓋住樣品表面的細微，得不到樣品表面的真實信息。 ? 假如樣品鍍層太薄，對于樣品表面粗糙的樣品，不容易獲得連續均勻的鍍層，容易形成島狀結構，從而掩蓋樣品的真實表面。樣品制備 ? 表面鍍膜最常用的方法有真空蒸發和離子濺射兩種方法。 ? 其中真空蒸發一般是在 10－ 5～ 10－ 7Pa左右的真空中蒸發低熔點的金屬。 ? 一般經常采用的是蒸鍍金屬金薄膜，但當要求高放大倍數時，金屬膜的厚度應該在 10nm以下，一般可以蒸鍍 AuPd（ 6:4）合金。這樣可以避免島狀結構的形成。 ? 從經驗上看，先蒸發一層很薄的炭，然后再蒸鍍金屬層

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